掩体系统（下）

上一章介绍了掩体系统在离线/运行时的场景掩体点生成算法流程。本章主要介绍掩体在运行时的交互逻辑流程。

运行时交互

由于不同体型，不同角色速度角度或者别的参数的情况下掩体生成阶段无法抉择，运行时的判断是必须的

掩体过矮、过窄、坡度过陡、转角角度过大都被认为不能进入的掩体

掩体点过滤和择优

我们上一章节介绍了根据场景Navmesh生成的掩体点。掩体点粗略代表了此位置是可以进入的掩体位置。但是这个位置掩体点是否是可以真正交互的，也需要做掩体点的过滤和择优。

过滤公式如下：

将掩体点选择到可用池中，其中Range为传入范围参数，Block为掩体法线击中点，CharPt为角色位置，CoverPt为掩体点位置，Input为输入方向，Camera为摄像机方向，Normal为掩体点法线。

而择优则是采用打分机制，公式如下：

高度检测

对于不同高度的掩体，其交互效果的逻辑也不一样，高度检测也是必须实现的逻辑。对掩体高度检测能过滤掉不合法掩体的同时，还能实现高低掩体的切换功能。

高度检测算法流程：通过BoxTrace水平检测，从下往上迭代数次，获取最后一次的击中Trace，并获取击中的点，与角色立足点的Z轴相减，则可以获得掩体高度。

有时候击中点高度不是那么准确，可以优化为：从最后的一次非击中Trace的起始点和终点所为线段，与上次击中Trace的点（可能高度不对）与掩体法线所谓平面相交，求得焦点并修正Z为起始点Z，向下Trace得到的击中点必然为Z轴准确点

使用BoxTrace实现检测掩体高度（左）以及对应的DebugDraw（右)

转角检测

转角检测用于判断角色能否连续移动到转角掩体。

算法流程是：从角色Y朝向（左右方向）两个对象方向移动一定距离（EdgeMaxDistance），旋转90°朝X方向（正对方向）发出射线，此时如果击中则可计算转角角度（EdgeAngle），否则继续从端点发出射线，击中下一个障碍，如果击中，法线与当前射线向量则为夹脚，否则视为无转角（90度）。

值得注意的是，初始射线检测的长度必须小于设定掩体边缘参数，否则检测结果是无效的。

转角检测算法

掩体角色的交互状态机

为让整个交互过程清晰，状态机处理流程是一个好办法。状态流程具体还分为左右肩进入，高低掩体进入和切换，掩体起步、移动、转身、探身等。

掩体进出和高低掩体切换状态机

掩体进出细节分支与掩体瞄准切换

掩体起步、移动、转身、折返

总结

实际上掩体系统逻辑的复杂度还远不如上述，其包含掩体探身（探身射击）、掩体盲射，快速掩体进入（掩体滑铲进、掩体翻滚进入，掩体跳跃进入）等。各个逻辑模块也不算复杂，不过实际做法也大同小异。掩体系统的核心和本质是角色跟场景的交互，或者说是检测算法与碰撞的反馈。Gameplay系统其中一个重要本质是让玩家做到尽可能少且直觉的操作或输入，然后系统能经过复杂但合理的处理后输出有趣且多种多样反馈，掩体系统理论上应该做到如此。